Máy quang phổ ICP-OES PlasmaQuant 9200 Analytik Jena: Kích thước nhỏ gọn, hiệu suất đỉnh cao

Trong lĩnh vực phân tích nguyên tố, yêu cầu về độ chính xác, độ nhạy và độ ổn định ngày càng cao. Máy quang phổ phát xạ quang plasma cặp cảm ứng (ICP-OES) PlasmaQuant 9200 Series của Analytik Jena ra đời để đáp ứng những thách thức đó, mang đến một giải pháp nhỏ gọn nhưng mạnh mẽ, kết hợp độ phân giải hàng đầu thị trường với khả năng chịu nền mẫu vượt trội. Với thiết kế tối ưu không gian, khởi động nhanh chóng và vận hành dễ dàng, PlasmaQuant 9200 Series là công cụ then chốt cho sự thành công của phòng thí nghiệm phân tích nguyên tố hiện đại.

Tại sao chọn máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 cho phân tích nguyên tố?

Máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 không chỉ đơn thuần là một thiết bị phân tích, mà là một giải pháp toàn diện được xây dựng dựa trên các tiêu chí:

• Chất lượng phân tích vượt trội: Đạt độ phân giải vô song 2 pm @ 200 nm và giới hạn phát hiện (detection limits) tốt nhất với độ ổn định dài hạn, cho phép phân tích chính xác các nguyên tố ở nồng độ vết.

• Thiết kế nhỏ gọn, tiết kiệm không gian: Là máy ICP-OES có diện tích đặt máy nhỏ nhất trên thị trường, tiết kiệm hơn 40% không gian so với thế hệ trước, phù hợp với mọi không gian phòng thí nghiệm.

• Hiệu suất mạnh mẽ và ổn định: Khởi động nhanh chóng dưới 10 phút, plasma mạnh mẽ và ổn định (lên đến 1700 Watt) cho phép xử lý mọi loại nền mẫu phức tạp.

• Vận hành đơn giản và đáng tin cậy: Thao tác dễ dàng, thay thế vật tư tiêu hao đơn giản và tính linh hoạt cao, đảm bảo hoạt động liên tục và giảm thiểu thời gian dừng máy.

Những ưu điểm cốt lõi của máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 Series

Để trở thành tiêu chuẩn mới trong phân tích ICP-OES, máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 được trang bị những công nghệ và tính năng đột phá:

1. Chất lượng phân tích xuất sắc với máy ICP-OES PlasmaQuant 9200

• Độ phân giải vô song: Với độ phân giải 2 pm @ 200 nm (đặc biệt ở model Elite), các vạch phát xạ gần nhau được tách biệt rõ ràng, giảm thiểu nhiễu phổ và đảm bảo nhận diện chính xác nguyên tố.

• Giới hạn phát hiện tốt nhất và ổn định: Cho phép phân tích đáng tin cậy các nguyên tố ở nồng độ rất thấp.

• Dải phổ rộng nhất hiện có (160 – 900 nm): Cung cấp khả năng truy cập hơn 43,000 vạch phát xạ, mang lại sự linh hoạt tối đa trong việc lựa chọn vạch phân tích tối ưu cho mọi ứng dụng.

2. Hiệu suất mạnh mẽ trong một thiết kế nhỏ gọn

• Tiết kiệm không gian vượt trội: Với chiều rộng chỉ 60 cm, máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 là thiết bị nhỏ gọn nhất trong cùng phân khúc.

• Plasma mạnh mẽ, linh hoạt: Công suất plasma lên đến 1700 Watt và khả năng quan sát plasma linh hoạt (Dual View PLUS) giúp xử lý hiệu quả mọi loại nền mẫu, từ đơn giản đến phức tạp.

• Khởi động nhanh chóng: Sẵn sàng hoạt động trong vòng chưa đầy 10 phút, tiết kiệm thời gian và năng lượng.

3. Vận hành đơn giản, độ tin cậy cao

• Hệ thống đầu đốt V Shuttle Torch dạng module, plug-and-play: Đơn giản hóa việc bảo trì và tăng thời gian hoạt động của máy. Các thành phần có thể thay thế dễ dàng, giảm chi phí vật tư tiêu hao. Tất cả các kết nối khí tự động khớp vào vị trí mà không cần dụng cụ.

• Quan sát plasma kép Dual View PLUS: Cho phép đo đồng thời ở chế độ quan sát dọc trục (axial) và xuyên tâm (radial) cho mỗi vạch phát xạ, giúp phát hiện nồng độ từ mức ppb đến phần trăm cao trong một lần đo, giảm thiểu việc đo lại mẫu.

• Công nghệ đối khí (Counter-gas technology) tích hợp: Giảm thiểu nhiễu từ đuôi plasma lạnh hơn, duy trì sự ổn định của vùng quan sát dọc trục, tăng độ nhạy phân tích.

• Bộ tạo cao tần (RF Generator) thế hệ mới: Bộ tạo RF 27 MHz hiện đại cung cấp plasma cực kỳ ổn định và mạnh mẽ, lý tưởng cho các ứng dụng công nghiệp thường quy với các nền mẫu khó như nước muối, cô đặc kim loại hoặc dung môi hữu cơ dễ bay hơi.

Các model trong dòng máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 Series

Analytik Jena cung cấp hai model chính trong dòng máy ICP-OES PlasmaQuant 9200:

• PlasmaQuant 9200: Phân tích hiệu quả về chi phí mà không ảnh hưởng đến chất lượng, với độ phân giải 0.006 nm @ 200 nm.

• PlasmaQuant 9200 Elite: Độ phân giải phổ cao (0.002 nm @ 200 nm) cho các ứng dụng phân tích đòi hỏi khắt khe nhất, giải quyết các vấn đề nhiễu phổ phức tạp.

Phần mềm ASpect PQ: Kiểm soát thông minh, hiệu quả tối đa

Máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 được điều khiển bởi phần mềm ASpect PQ, một công cụ mạnh mẽ và trực quan:

• Kiểm soát, giám sát và ghi lại toàn bộ quy trình.

• Kiến trúc module linh hoạt: Cho phép làm việc với các phương pháp thường quy đã cài đặt sẵn hoặc phát triển phương pháp tùy chỉnh.

• Công cụ tự động mạnh mẽ: Tự động hiệu chỉnh đường nền (Automatic Baseline Correction – ABC) và Hiệu chỉnh nhiễu phổ (Correction for Spectral Interferences – CSI) giúp đơn giản hóa việc đánh giá dữ liệu và tăng năng suất phòng thí nghiệm.

• Giao diện người dùng đa ngôn ngữ, rõ ràng.

• Tuân thủ đầy đủ 21 CFR Part 11: Bao gồm module FDA cập nhật và quản lý người dùng.

• Tích hợp LIMS liền mạch.

Ứng dụng đa dạng của máy ICP-OES PlasmaQuant 9200

Với hiệu suất vượt trội, máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 là công cụ lý tưởng cho nhiều lĩnh vực:

• Môi trường: Giám sát chất lượng nước uống, phân tích nước thải, đất, trầm tích.

• Thực phẩm & Nông nghiệp: Xác định nguyên tố dinh dưỡng và độc hại trong thực phẩm, thức ăn chăn nuôi, phân bón.

• Dầu khí: Phân tích tạp chất nguyên tố trong dầu diesel (theo ASTM D7111), dầu thô, dầu nhờn.

• Địa chất và Khai khoáng.

• Hóa chất và Vật liệu.

• Dược phẩm và An toàn sản phẩm.

Thông số kỹ thuật chính của máy ICP-OES PlasmaQuant 9200

• Đầu dò: Charge Coupled Device (CCD).

• Độ phân giải phổ: Lên đến 0.002 nm @ 200 nm (PlasmaQuant 9200 Elite).

• Quan sát Plasma: Radial plus, axial plus (Dual View PLUS).

• Số vạch phát xạ có thể truy cập: > 43,000.

• Dải bước sóng: 160 – 900 nm.

• Dải công suất bộ tạo RF: 700 – 1700 W.

Để xem thông số kỹ thuật đầy đủ cho từng model máy ICP-OES PlasmaQuant 9200, vui lòng tham khảo tại đây.

Phụ kiện và vật tư tiêu hao chuyên dụng

Analytik Jena cung cấp đầy đủ các bộ kit giới thiệu mẫu (STANDARD KIT, SALT KIT, ORGANIC KIT, HF KIT, PRECISION KIT) và các phụ kiện khác như hệ thống bơm mẫu tự động (autosampler), giúp tối ưu hóa hiệu suất của máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 cho từng loại ứng dụng cụ thể.

Kết luận: Máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 – Đặt ra tiêu chuẩn mới cho phân tích nguyên tố

Máy quang phổ ICP-OES PlasmaQuant 9200 Series của Analytik Jena không chỉ là một bước tiến về công nghệ mà còn là một minh chứng cho cam kết về chất lượng và hiệu suất. Với sự kết hợp hoàn hảo giữa độ phân giải vượt trội, khả năng xử lý nền mẫu phức tạp, thiết kế nhỏ gọn và vận hành đơn giản, máy ICP-OES PlasmaQuant 9200 sẵn sàng đáp ứng và vượt trên cả những yêu cầu phân tích khắt khe nhất, giúp phòng thí nghiệm của bạn đạt được kết quả chính xác, đáng tin cậy và hiệu quả về chi phí.

Để nhận báo giá hoặc tư vấn chi tiết về máy ICP-OES PlasmaQuant 9200, vui lòng liên hệ với chúng tôi tại đây.